Gravure d’oxide, nitride et aluminium
Gravure d’oxide, nitride et aluminium
| FABRICANT | Akrion |
|---|---|
| MODÈLE | GAMA wet processor B |
Description générale :
Fournir le nettoyage chimique humide de la plaquette, la préparation de la surface et la gravure
Caractéristiques :
- Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage;
- Le mini-environnement dans un banc humide garantit des performances de salle blanche de classe 1 sur la surface de la plaquette;
- Surveillance des particules en temps réel dans les réservoirs chimiques;
- Traitement de plusieurs lots / recettes (jusqu’à 4 recettes sur un seul banc en même temps);
- Haut débit et faible coût par tranche;
- Analyse chimique en temps réel et ajustements de concentration:
Pour utiliser cet équipement
Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.
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