Gravure de silicium

FABRICANT Akrion
MODÈLE GAMA wet processor C

Description générale :

Fournir le nettoyage chimique humide de la plaquette, la préparation de la surface et la gravure

Caractéristiques :

  • Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage;
  • Le mini-environnement dans un banc humide garantit des performances de salle blanche de classe 1 sur la surface de la plaquette;
  • Surveillance des particules en temps réel dans les réservoirs chimiques;
  • Traitement de plusieurs lots / recettes (jusqu’à 4 recettes sur un seul banc en même temps);
  • Haut débit et faible coût par tranche;
  • Analyse chimique en temps réel et ajustements de concentration:

Pour utiliser cet équipement

Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.

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