Dépôt chimique phase vapeur à basse pression / LSN
Dépôt chimique phase vapeur à basse pression / LSN
| FABRICANT | SPT Micro |
|---|---|
| MODÈLE | AVP-8200 |
Description générale :
Dépôt chimique en phase vapeur à basse pression d’une couche mince de LSN
Caractéristiques :
- Épaisseur du film: 135 ± 6,7 nm et 300 ± 45 nm
- Non-uniformité de l’épaisseur de la tranche: 1% (1 sigma)
- Non-uniformité d’épaisseur de tranche à tranche: 1% (1-sigma)
- Taille de la tranche: 150 mm, 200 mm
- Gaufrettes de production par charge: 50 – 100
- Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700 µm
- Taux de dépôt de LSN: 1,5 nm / min
- Plage de température: 600 – 800 ° C
- Configuration de la chambre: Cross-flow
- Gaz utilisés: dichlorosilane, ammoniac
- Contrôle du débit massique de dichlorosilane: ± 0,1 sccm du débit cible.
- Contrôle du débit massique d’ammoniac: ± 0,1 sccm du débit cible.
- Capacité de nettoyage in situ automatisée à l’aide de trifluorure d’azote
Pour utiliser cet équipement
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