Dépôt chimique phase vapeur à basse pression / LSN
Dépôt chimique phase vapeur à basse pression / LSN
| FABRICANT | SPT Micro |
|---|---|
| MODÈLE | AVP-8200 |
Description générale :
Dépôt chimique en phase vapeur à basse pression d’une couche mince de LSN
Caractéristiques :
- Épaisseur du film: 135 ± 6,7 nm et 300 ± 45 nm
- Non-uniformité de l’épaisseur de la tranche: 1% (1 sigma)
- Non-uniformité d’épaisseur de tranche à tranche: 1% (1-sigma)
- Taille de la tranche: 150 mm, 200 mm
- Gaufrettes de production par charge: 50 – 100
- Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700 µm
- Taux de dépôt de LSN: 1,5 nm / min
- Plage de température: 600 – 800 ° C
- Configuration de la chambre: Cross-flow
- Gaz utilisés: dichlorosilane, ammoniac
- Contrôle du débit massique de dichlorosilane: ± 0,1 sccm du débit cible.
- Contrôle du débit massique d’ammoniac: ± 0,1 sccm du débit cible.
- Capacité de nettoyage in situ automatisée à l’aide de trifluorure d’azote
To use this equipment
The equipment available is accessible to the academic and industrial research community.
To learn about usage conditions and availability, please fill out the form below. After reviewing your request, we will contact you shortly to offer you the best available solution.