Implantation Ionique (IMC-200)
Implantation Ionique (IMC-200)
Informations complémentaires
| FABRICANT | Ion Beam Services |
|---|---|
| MODÈLE | IMC-200 |
Échantillons
- Taille d’échantillons : de 5 mm à 150 mm
- Température : -150 °C à 500 °C
- Tension d’accélération : 1 keV à 200 keV (400 keV pour double charge)
Caractéristiques
- Implanteur Varian CF3000 modifié
- Courant médium (jusqu’à 1 mA selon les espèces)
- Source: gaz, solide, liquides (Bernas ou Freeman)
- Angle: 0 à 60 degrés (limite: échantillon de 100 mm)
- Système cassette à cassette en gaufres de 100 mm
- Neutraliseur de charge (flood gun)
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Implantation Ionique
- Matériaux standards implantés : Ar, N, B, Br, Ca, Co, Sn, F, Ge, H, Mg, Ni, Si
- Dose : 1.00E+14 à 3.00E+17
Pour utiliser cet équipement
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