Aligneuse (200)

Informations complémentaires

Échantillons

• Taille de photomasques : 127 mm maximum
• Taille d’échantillons : 5 mm à 75 mm

Caractéristiques

• Sélection spectrale : broadband, I-line, G-line

PROCÉDÉS DE ROUTINE

Photolithographie mode contacte

Sur : résines positives

• – Taille de motif minimal atteinte : 0.7 µm
• – Épaisseur atteinte : 0.45 µm à 30 µm

Sur :résines négatives

• Taille de motif minimal atteinte : 1 µm
• Épaisseur atteinte : 1.5 µm à 5 µm

Sur : SU8

• – Taille de motif minimal atteinte : –
• – Épaisseur atteinte : 0.5 µm à 30 µm

Sur : inversion d’image

• – Taille de motif minimal atteinte : 1.5 µm
• – Épaisseur atteinte : 1.5 µm à 3 µm

PROCÉDÉS DE ROUTINE

Photolithographie semi-contacte

Sur : résines positives

• Taille de motif minimal atteinte : 2 µm
• Épaisseur atteinte : 0.45 µm à 30 µm

Sur : résines négatives

• Taille de motif minimal atteinte : 2 µm
• Épaisseur atteinte : 1.5 µm à 5 µm

Sur : SU8

• Taille de motif minimal atteinte : 3 µm
• Épaisseur atteinte : 0.5 µm à 30 µm

Sur : inversion d’image

• Taille de motif minimal atteinte : 2 µm
• Épaisseur atteinte : 1.5 µm à 3 µm

Procédés de routine – autres

• Photolithographie sur pellicule photosensibles déposées par laminage. Offre la possibilité d’utiliser des résines beaucoup plus épaisses (100 µm)