Aligneuse (EVG 620)

Informations complémentaires

FABRICANT EV Group
MODÈLE EVG 620

Échantillons

  • Taille de photomasques : 178 mm (7 po) maximum
  • Taille d’échantillons : 150 mm maximum

Caractéristiques

  • Source : lampe au mercure 1 000 W
  • Sélection spectrale : I-line
  • Optique : miroir diélectrique UV moyen (350 nm – 450 nm)
  • Sélection de longueur d’onde possible par filtre passe-bande
  • Mode d’exposition: proximité, contact ou sous vide, UV-Nanoimprint
  • Alignement: par caméra CCD programmable par face avant ou arrière
  • Précision d’alignement: 0.5 µm avec lentille 20 X

 

PROCÉDÉS DE ROUTINE

Photolithographie mode contacte

Sur : résines positives

  • Taille de motif minimal atteinte : 0.6 µm
  • Épaisseur atteinte : 0.5 µm à 10 µm

Sur : SU8

  • Taille de motif minimal atteinte : –
  • Épaisseur atteinte : 1 µm à 200 µm

 

PROCÉDÉS DE ROUTINE

Photolithographie mode contacte

Sur : résines négatives

  • Taille de motif minimal atteinte : 0.7 µm
  • Épaisseur atteinte : 0.7 µm à 10 µm

Pour utiliser cet équipement

Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.

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