Fournaise lpcvd
Fournaise lpcvd
Informations complémentaires
| FABRICANT | Tystar |
|---|---|
| MODÈLE | Tystar |
Échantillons
- Taille d’échantillons : 75 mm (3 po) à 152 mm (6 po)
- Température : 250 °C à 1275 °C
- Uniformité sur la gaufre : 5% sur 152 mm, 10% sur 75 mm sizes
Caractéristiques
- Tube 1: LPCVD avec SiH4, SiH2Cl2 ou NH3
- Tube 2: tube atmosphérique avec N2, O2, H2 et source liquide de Trans-LC
- Entrée et sortie automatique des substrats
- Recettes sauvegardées par ordinateur
- Torche interne pour oxydation humide
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Dépôt
Nitrure
- Épaisseur : de 100 nm à 2 µm
- Indice optique : 1.98 – 2.30
- Stress : 60 Mpa – 1200 Mpa
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Dépôt
Oxide
- Épaisseur : de 10 nm à 10 µm
- Indice optique : 1.45 – 1.47
Pour utiliser cet équipement
Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.
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