Pulvérisation horizontale
Pulvérisation horizontale
| FABRICANT | KDF Electronics & Vacuum Services Inc. |
|---|---|
| MODÈLE | 943 GT |
Description générale :
Processus par lequel des atomes sont éjectés d’un matériau cible solide en raison du bombardement de la cible par des particules énergétiques, couramment utilisé pour le dépôt de couches minces.
Caractéristiques :
- Surface libre de point de contact
- Dimension de la chambre 7 x 23 x 69,5 pouces (P x H x L)
- Dimension de la palette 13 x 13 pouces
- Hauteur de la palette jusqu’à 2 pouces
- Pompe à vide élevé ≤ 2 × 10-7 Torr
- Jusqu’à 3 cathodes 12 x 37,8 cm
- Générateur RF 1,5 KW (en option 3 KW)
- Alimentation DC Magnetron 10 KW réglable sur 850V ou 30 Amp
- Vitesse de numérisation (bidirectionnelle) 2 à 400 cm/min
- Niveau de gravure 0,1 à 1,5 KW
- Uniformité de l’épaisseur du dépôt sur la palette pour l’aluminium de 1 µm
- +/- 5% planaire à l’aide d’aimants à haute uniformité (DC ou RF)
- +/- 10% Planaire utilisant des aimants à haute utilisation (DC ou RF)
- Dépôt d’uniformité d’épaisseur palette à palette +/- 5% tout type de cathode
- Uniformité de la gravure (avec volets mobiles) :
- Tranche à tranche +/- 7%
- Sur une tranche +/- 10%
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