Implantation Ionique (IMC-200)

Implantation Ionique (IMC-200)

Informations complémentaires

FABRICANT Ion Beam Services
MODÈLE IMC-200

Échantillons

  • Taille d’échantillons : de 5 mm à 150 mm
  • Température : -150 °C à 500 °C
  • Tension d’accélération : 1 keV à 200 keV (400 keV pour double charge)

Caractéristiques

  • Implanteur Varian CF3000 modifié
  • Courant médium (jusqu’à 1 mA selon les espèces)
  • Source: gaz, solide, liquides (Bernas ou Freeman)
  • Angle: 0 à 60 degrés (limite: échantillon de 100 mm)
  • Système cassette à cassette en gaufres de 100 mm
  • Neutraliseur de charge (flood gun)

 

PROCÉDÉS DE ROUTINE

Implantation Ionique

  • Matériaux standards implantés : Ar, N, B, Br, Ca, Co, Sn, F, Ge, H, Mg, Ni, Si
  • Dose : 1.00E+14 à 3.00E+17
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