Photolithographie Laser
Photolithographie Laser
Informations complémentaires
| FABRICANT | Heidelberg |
|---|---|
| MODÈLE | DWL-66FS |
Échantillons
- Taille de photomasques : 152 mm (6 po) maximum
- Taille d’échantillons : 152 mm maximum
- Épaisseur : 10 mm maximum
Caractéristiques
- Précision d’alignement: de 200 nm à 2000 nm (selon la résolution)
- Laser diode, longueur d’onde: 405 nm
- Vitesse d’écriture: de 1 mm²/min à 290 mm²/min (selon la résolution)
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Photolithographie
Sur résine négative
- Taille de motif minimal atteinte : 2 µm
- Épaisseur: de 1 µm à 3 µm
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Photolithographie
Sur résine positive
- Taille de motif minimal: 1 µm
- Épaisseur atteinte : de 1.5 µm à 7 µm
Pour utiliser cet équipement
Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.
Afin de connaître les modalités d’utilisation et les disponibilités, veuillez remplir le formulaire ci-dessous. Après analyse de votre demande, nous prendrons rapidement contact avec vous, afin de vous proposer la meilleure solution disponible.