Implantation Ionique (N/A)
Implantation Ionique (N/A)
Informations complémentaires
| FABRICANT | N/A |
|---|---|
| MODÈLE | N/A |
Échantillons
- Taille d’échantillons : de 1 mm à 50 mm
Appareil unique au Canada permettant des implantations à plus de 10 MeV
- Température : de – 190 °C à 300 °C
- Tension d’accélération : de 5 keV à 75 000 keV (dépendant de l’ion implanté)
PROCÉDÉS DE ROUTINE
Implantation Ionique
- Matériaux standards implantés: tous les solides
- Dose : de 1.00E+10 à 1.00E+18 atoms/cm2
Pour utiliser cet équipement
Les équipements présents sont accessibles à la communauté de recherche académique et industrielle.
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