Gravure de silicium
Gravure de silicium
| FABRICANT | Akrion |
|---|---|
| MODÈLE | GAMA wet processor C |
Description générale :
Fournir le nettoyage chimique humide de la plaquette, la préparation de la surface et la gravure
Caractéristiques :
- Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage;
- Le mini-environnement dans un banc humide garantit des performances de salle blanche de classe 1 sur la surface de la plaquette;
- Surveillance des particules en temps réel dans les réservoirs chimiques;
- Traitement de plusieurs lots / recettes (jusqu’à 4 recettes sur un seul banc en même temps);
- Haut débit et faible coût par tranche;
- Analyse chimique en temps réel et ajustements de concentration:
To use this equipment
The equipment available is accessible to the academic and industrial research community.
To learn about usage conditions and availability, please fill out the form below. After reviewing your request, we will contact you shortly to offer you the best available solution.






